特許

J-GLOBAL ID：200903029994674351

加熱装置

発明者： 内田 俊也 ,  堂囿 清志 ,  須藤 宏一 ,  岩田 尚士 ,  山口 崇仁 ,  川上 武彦
出願人/特許権者： 株式会社タムラ製作所 ,  株式会社タムラエフエーシステム
代理人 (3件)： 樺澤 襄 ,  樺澤 聡 ,  山田 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-166152
公開番号（公開出願番号）：特開2004-009099
出願日： 2002年06月06日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】装置立上げ時の過度の消費電流による電力障害を防止し、複数のヒータを一定時間毎に順に立上げる場合の適正な立上げ時間の設定困難性を解決する加熱装置を提供する。【解決手段】炉体11内でワークWを搬送するコンベア12に沿ってワークWを加熱する複数のヒータ13〜16を配置する。各ヒータ13〜16の合計消費電力を一定値以下にするように各ヒータ13〜16への供給電力を制御するコントローラ19を設置する。このコントローラ19は、装置立上げ時に複数のヒータ13〜16のうち少なくとも一つへ供給する電力を制限して各ヒータ13〜16への供給電力の合計が予め決めた上限値を超えないように制御し、温度の上昇にともなって電力制限のないヒータ13〜16への供給電力を減少させるように制御するとともに、電力を制限したヒータ13〜16にその減少分の電力を供給するように制御する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

炉体と、 炉体内でワークを加熱する複数のヒータと、 複数のヒータへの供給電力を制御するコントローラとを具備し、 コントローラは、 装置立上げ時に複数のヒータのうち少なくとも一つへ供給される電力を制限して複数のヒータへの供給電力の合計が予め決められた上限値を超えないように制御し、 温度の上昇にともなって電力の制限されていないヒータへの供給電力を減少させるように制御するとともに電力の制限されているヒータにその減少分の電力を供給する ことを特徴とする加熱装置。

IPC (3件)：

B23K3/04 ,  B23K1/008 ,  H05K3/34

FI (3件)：

B23K3/04 Y ,  B23K1/008 C ,  H05K3/34 507K

Fターム (2件)：

5E319CC47 ,  5E319GG20

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リフロー装置のヒータ立上げ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-006331   出願人：松下電器産業株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-007178   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平2-013727
  
• 定着装置の制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-310190   出願人：株式会社日立製作所