特許
J-GLOBAL ID:200903030006888692
真空乾燥装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松尾 憲一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-339419
公開番号(公開出願番号):特開2001-153556
出願日: 1999年11月30日
公開日(公表日): 2001年06月08日
要約:
【要約】【課題】被乾燥物が真空蒸着することなく、安定して高い乾燥能力を発揮することのできる真空乾燥機を提供すること。【解決手段】乾燥ドラム(2) と、同乾燥ドラム(2) 内に配設した撹拌装置(3) と、前記乾燥ドラム(2) 内を減圧する減圧装置(4) とを具備する真空乾燥機において、前記乾燥ドラム(2) を、内周壁(20)と外周壁(21)との間に加熱媒体流路(R) を設けた構成となすとともに、前記撹拌装置(3) を、加熱媒体流路(R) となる中空部(30)を有する中空回転軸(31)に、前記中空部(30)と連通する複数の撹拌羽根(32)を設けた構成とし、しかも、前記中空回転軸(31)及び撹拌羽根(32)の表面を、フッ素樹脂加工した構成とする。
請求項(抜粋):
乾燥ドラム(2) と、同乾燥ドラム(2) 内に配設した撹拌装置(3) と、前記乾燥ドラム(2) 内を減圧する減圧装置とを具備する真空乾燥機において、前記乾燥ドラム(2) を、内周壁(20)と外周壁(21)との間に加熱媒体流路(R) を設けた構成となすとともに、前記撹拌装置(3) を、加熱媒体流路(R) となる中空部 (30)を有する中空回転軸(31)に、前記中空部(30)と連通する複数の撹拌羽根(32)を設けた構成とし、しかも、前記中空回転軸(31)及び撹拌羽根(32)の表面を、フッ素樹脂加工したことを特徴とする真空乾燥機。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (15件):
3L113AA06
, 3L113AB03
, 3L113AB05
, 3L113AC05
, 3L113AC15
, 3L113AC24
, 3L113AC47
, 3L113AC58
, 3L113AC68
, 3L113AC75
, 3L113AC77
, 3L113BA36
, 3L113BA37
, 3L113DA05
, 3L113DA10
引用特許:
審査官引用 (9件)
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横型撹拌機
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-054655
出願人:玉川マシナリー株式会社
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含水物乾燥処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-302734
出願人:東静電気株式会社
-
汚泥の乾燥方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-249584
出願人:株式会社東洋プラント
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