特許
J-GLOBAL ID：200903030007810514

マスク、容器、および製造装置

発明者：
山崎 舜平

山崎 舜平 について

, 
坂田 淳一郎

坂田 淳一郎 について

, 
桑原 秀明

桑原 秀明 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-106139
公開番号（公開出願番号）：特開2004-307976
出願日： 2003年04月10日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】本発明は、大面積基板に対して選択的に蒸着を行うため、マスク精度の高い大型マスクを提供する。【解決手段】本発明は、マスクフレーム120の幅における熱膨張中心121を通過する線上に配置した固定位置A124aでマスク本体122を固定する。また、本発明において、基板124とマスク本体122は固定し、蒸着源をX方向またはY方向に移動させることによって蒸着を行うものとする。蒸着源をX方向またはY方向に移動させる方法は、大型基板の蒸着に適している。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
パターン開口を有する薄板状のマスクであって、 マスクは伸張した状態でフレームに固定されており、且つ、前記マスクはフレームの部材における熱膨張中心を通る線と一致する箇所で接着されていることを特徴とするマスク。
IPC (4件)：
C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (4件)：
C23C14/04 A ,  C23C14/24 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (9件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029DA08 ,  4K029DA12 ,  4K029DB12 ,  4K029DB14 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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