特許
J-GLOBAL ID：200903030025409860

DDR型ゼオライト膜複合体及びその製造方法

発明者：
中山 邦雄

中山 邦雄 について

, 
谷島 健二

谷島 健二 について

, 
富田 俊弘

富田 俊弘 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-232550
公開番号（公開出願番号）：特開2004-066188
出願日： 2002年08月09日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】例えば、分子分離膜として用いた場合に、高い機械的強度を有するとともに、熱応力によるクラック等の欠陥の発生を防止することができ、かつ、十分な透過量を確保することができるDDR型ゼオライト膜複合体及びその製造方法を提供する。【解決手段】多孔質基体2と、多孔質基体2の一方の表面の細孔3内に配設された、DDR型ゼオライトからなる、多孔質基体の平均細孔径の5〜50倍の厚さの基体内析出DDR型ゼオライト層5とを備えてなることを特徴とするDDR型ゼオライト膜複合体1。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
多孔質基体と、前記多孔質基体の少なくとも一方の表面の細孔内に配設された、DDR型ゼオライトからなる、前記多孔質基体の平均細孔径の5〜50倍の厚さの基体内析出DDR型ゼオライト層とを備えてなることを特徴とするDDR型ゼオライト膜複合体。
IPC (2件)：
B01D71/02 ,  B01D69/12
FI (2件)：
B01D71/02 500 ,  B01D69/12
Fターム (23件)：
4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA06 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC01X ,  4D006NA45 ,  4D006NA50 ,  4D006PB64 ,  4D006PB68 ,  4G073BB09 ,  4G073BB12 ,  4G073BB14 ,  4G073BB42 ,  4G073BB43 ,  4G073BD18 ,  4G073CZ41 ,  4G073CZ54 ,  4G073FA09 ,  4G073FB11 ,  4G073FC25 ,  4G073UA06
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM