特許
J-GLOBAL ID:200903030099730708
薄膜構造の特性評価を含む、偏光解析、反射光測定および散乱光測定のための干渉計法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-534816
公開番号(公開出願番号):特表2005-538359
出願日: 2003年09月09日
公開日(公表日): 2005年12月15日
要約:
検出器上で参照光と干渉するように、或る範囲の角度にわたってテスト物体から出射するテスト光を結像することであって、テスト光および参照光は共通の光源から生成される。それぞれの角度毎に、テスト光がテスト物体から出射する角度に依存する速度で、テスト光および参照光の干渉する部分の間にいて、光源から検出器までの光路長差を同時に変更すること、および、それぞれの角度毎に光路長差を変更しながら、テスト光と参照光との間の干渉に基づいて、テスト物体の光学特性の角度依存性を特定することからなる方法。
請求項(抜粋):
或る範囲の角度にわたってテスト物体から出射するテスト光を、検出器上で参照光と干渉するように結像させる方法であって、
前記テスト光および参照光は共通の光源から生成されること、
それぞれの角度において、前記テスト光がテスト物体から出射する角度に依存する速度で、前記テスト光および参照光の干渉する部分の間における光源から検出器までの光路長差を同時に変更すること、および
それぞれの角度において光路長差を変更しながら、前記テスト光と参照光との間の干渉に基づいて、前記テスト物体の光学特性の角度依存性を決定すること、
からなる方法。
IPC (4件):
G01N21/45
, G01B11/06
, G01N21/00
, G01N21/21
FI (4件):
G01N21/45 A
, G01B11/06 G
, G01N21/00 B
, G01N21/21 Z
Fターム (48件):
2F065AA30
, 2F065AA53
, 2F065CC31
, 2F065FF01
, 2F065FF51
, 2F065FF52
, 2F065GG03
, 2F065GG04
, 2F065GG06
, 2F065GG07
, 2F065HH04
, 2F065HH08
, 2F065HH09
, 2F065HH10
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065LL22
, 2F065LL33
, 2F065LL35
, 2F065LL37
, 2F065LL46
, 2F065MM26
, 2F065QQ03
, 2F065QQ16
, 2F065QQ25
, 2F065UU07
, 2G059AA02
, 2G059BB10
, 2G059BB16
, 2G059DD12
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059EE09
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059GG10
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ19
, 2G059JJ20
, 2G059JJ22
, 2G059MM01
, 2G059MM10
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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