特許
J-GLOBAL ID:200903030189827220
平面研削装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
秋元 輝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-294521
公開番号(公開出願番号):特開平7-130692
出願日: 1993年10月29日
公開日(公表日): 1995年05月19日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 チャックテーブルをインデックステーブル上に設けないで、高精度の研削と装置全体の小型化を図った平面研削装置を得る。【構成】 半導体ウェーハ等の板状物2を研磨する平面研削装置において、粗研削を遂行する第1のスピンドルユニット8と、仕上げ研削を遂行する第2のスピンドルユニット9とを少なくとも含む。第1のスピンドルユニット8に対応する第1のチャックテーブル6と、第2のスピンドルユニット9に対応する第2のチャックテーブル7とが固定基台に自転可能に配設されており、第1のチャックテーブル上の板状物を第2のチャックテーブル上に搬送する第1の搬送手段が配設される。
請求項(抜粋):
半導体ウェーハ等の板状物を研削する平面研削装置において、粗研削を遂行する第1のスピンドルユニットと、仕上げ研削を遂行する第2のスピンドルユニットとを少なくとも含み、第1のスピンドルユニットに対応する第1のチャックテーブルと、第2のスピンドルユニットに対応する第2のチャックテーブルとが固定基台に自転可能に配設されており、第1のチャックテーブル上の板状物を第2のチャックテーブル上に搬送する第1の搬送手段が配設されている平面研削装置。
IPC (4件):
H01L 21/304 331
, B24B 7/22
, B65G 49/07
, H01L 21/68
引用特許:
審査官引用 (14件)
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特開昭63-077647
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特開昭63-077647
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特開昭63-077647
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特開昭61-297072
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特開平4-053661
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特開平4-053661
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ウエハ処理テーブル及びウエハ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-208582
出願人:東京応化工業株式会社
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特開平2-071544
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特開昭61-297072
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特開平4-369225
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洗浄処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-209121
出願人:ニチデン機械株式会社
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自然酸化膜除去装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-057004
出願人:東京エレクトロン株式会社
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特開昭63-077647
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特開平4-053661
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