ネガ型レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-235949
公開番号（公開出願番号）：特開2002-049151
出願日： 2000年08月03日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：

【要約】【課題】感度、解像力に優れ、しかも矩形なプロファイルが得られる電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物の開発である。【解決手段】特定の構造単位を含むアルカリ可溶性樹脂、感放射線性酸発生剤及び酸により架橋する架橋剤を含有する電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表わされる構造単位を含むアルカリ可溶性樹脂、電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物及び酸により架橋する架橋剤を含有することを特徴とする電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。【化1】式(1)中、R1aは、水素原子又はメチル基を表す。

IPC (6件)：

G03F 7/038 601 , C08F 12/22 , C08K 5/00 , C08L 25/18 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/038 601 , C08F 12/22 , C08K 5/00 , C08L 25/18 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Fターム (47件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025CB16 , 2H025CB52 , 2H025CB55 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BC021 , 4J002EV056 , 4J002EV066 , 4J002EV076 , 4J002EV296 , 4J100AB03P , 4J100AB03Q , 4J100AB03R , 4J100AB03S , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AB07R , 4J100AB07S , 4J100AL03T , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA03S , 4J100BA04Q , 4J100BA04R , 4J100BA04S , 4J100BA20Q , 4J100BA20R , 4J100BA20S , 4J100CA03 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100DA39 , 4J100EA01 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (6件)

放射線感応性高分子化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-053672 出願人：東レ株式会社
特開平2-253262
特開平2-059750

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