特許

J-GLOBAL ID：200903030238931950

微細構造体

発明者： 冨田 忠文 ,  堀田 吉則 ,  上杉 彰男
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (3件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  福島 弘薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-215402
公開番号（公開出願番号）：特開2006-038506
出願日： 2004年07月23日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：

【課題】信号強度が十分に大きく、かつ、再現性に優れた局在プラズモン共鳴を発生させる構造体の提供。 【解決手段】金属粒子が表面上に存在する電気絶縁性基材を有する構造体であって、 前記金属粒子が、厚さ2〜20nmの電気絶縁性の隔壁により分離されている、構造体。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

金属粒子が表面上に存在する電気絶縁性基材を有する構造体であって、 前記金属粒子が、厚さ2〜20nmの電気絶縁性の隔壁により分離されている、構造体。

IPC (2件)：

G01N 21/65 ,  B82B 1/00

FI (2件)：

G01N21/65 ,  B82B1/00

Fターム (8件)：

2G043BA16 ,  2G043DA06 ,  2G043EA03 ,  2G043GA07 ,  2G043GB01 ,  2G043GB02 ,  2G043GB05 ,  2G043GB16

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ナノ構造体とその製造方法、電子放出素子及びカ-ボンナノチュ-ブデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-047540   出願人：キヤノン株式会社
• 構造体及び構造体の製造方法並びにこれを用いたセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-001294   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (2件)

• 構造体及び構造体の製造方法並びにこれを用いたセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-001294   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 活性表面増強ラマン分光(SERS)基板としての金属被覆ナノ結晶性シリコン
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-513716   出願人：インテル・コーポレーション