特許
J-GLOBAL ID：200903030241409734
微小構造を有する装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-063906
公開番号（公開出願番号）：特開平8-258035
出願日： 1995年03月23日
公開日（公表日）： 1996年10月08日
要約：
【要約】【目的】微小装置を破損することなく、均一で半透明で保持時間の長い保護膜を形成し、しかも工数が少なく設備投資及びコストが安く汚染の心配が少なく保護膜の除去が容易かつ完全で検査が不要であり、かつ歩留まりが高く生産性に優れた一時的な保護膜の形成方法を提供する。【構成】微小構造を有する装置の製造において、該微小構造を形成した一主面103に常温・常圧下において固体の昇華性物質の融液被膜(ナフタレン融液陵104)を形成し、その後該融液被膜を冷却して少なくとも固相を有する構造の保護膜(ナフタレン固体被膜105)を形成し、しかる後に該保護膜を気化除去する工程を含む製造方法であって、上記融液被膜と上記微小構造との濡れ性を良くする工程を具備していることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
微小構造を有する装置の製造において、該微小構造を形成した一主面に、常温・常圧下において固体の昇華性物質の融液被膜を形成し、その後、該融液被膜を冷却して少なくとも固相を有する構造の保護膜を形成し、しかる後に該保護膜を気化、除去する工程を含む製造方法であって、上記融液被膜と上記微小構造との濡れ性を良くする工程を具備していることを特徴とする微小構造を有する装置の製造方法。
IPC (5件)：
B28D 5/00
, B28D 7/04
, H01L 21/312
, H01L 21/301
, H01L 29/84
B28D 5/00 Z
, B28D 7/04
, H01L 21/312 Z
, H01L 29/84 B
, H01L 21/78 Q
, H01L 21/78 L
, H01L 21/78 P
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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