特許
J-GLOBAL ID：200903030290883778

ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子

発明者：
妹尾 将秀

妹尾 将秀 について

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飯森 弘和

飯森 弘和 について

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藤原 健典

藤原 健典 について

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諏訪 充史

諏訪 充史 について


出願人/特許権者：
東レ株式会社

東レ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-338298
公開番号（公開出願番号）：特開2006-178436
出願日： 2005年11月24日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：
【課題】高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を有する、TFT基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる高感度のポジ型感光性シロキサン組成物を提供する 【解決手段】(a)シロキサンポリマー、(b)キノンジアジド化合物、および(c)溶剤を含有するポジ型感光性シロキサン組成物であって、当該組成物の硬化膜の波長400nmでの膜厚3μmあたりの光透過率が95%以上であることを特徴とするポジ型感光性シロキサン組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(a)シロキサンポリマー、(b)キノンジアジド化合物、および(c)溶剤を含有するポジ型感光性シロキサン組成物であって、当該組成物の硬化膜の波長400nmでの膜厚3μmあたりの光透過率が95%以上であるポジ型感光性シロキサン組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/075 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/075 521 ,  G03F7/022 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (13件)：
2H025AA01 ,  2H025AA10 ,  2H025AA20 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB33 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (1件)

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