特許
J-GLOBAL ID：200903030296224024
スパッタリングターゲットの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-047176
公開番号（公開出願番号）：特開平10-298743
出願日： 1998年02月27日
公開日（公表日）： 1998年11月10日
要約：
【要約】【課題】 複雑な表面形状を有するスパッタリングターゲットの表面不純物を容易に除去することができ、かつ、表面粗さを方向性のない均一で微細なものとする方法を提供する。【解決手段】 スパッタリングターゲットの表面を粒径が10〜500μmのブラスト材を用いてブラスト処理する。
請求項（抜粋）：
粒径が10〜500μmのブラスト材を用いて、スパッタリングターゲットのスパッタ面をブラスト処理することにより、スパッタ面を汚染した不純物を除去する工程を有することを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 A
, C23C 14/00 B
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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