特許
J-GLOBAL ID：200903030314630400
材料評価方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-136192
公開番号（公開出願番号）：特開平10-311818
出願日： 1997年05月10日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：
【要約】【課題】 各種材料の特性を、簡便かつ迅速に、しかも、材料が少しであっても精度よく確実に評価することができる材料評価方法を提供すること。【解決手段】 半導体基板5の一方の面にセンサ面7を有するとともに、前記半導体基板5に対してプローブ光3を照射するように構成した光走査型二次元濃度分布測定装置の前記センサ面5に接触するように溶液またはガスを設け、この溶液24またはガス43に接触するように評価対象材料23を設けたときに当該溶液24またはガス43中において引き起こされる微小な物質濃度または物性パラメータの分布の変化を検出するようにした。
請求項（抜粋）：
半導体基板の一方の面にセンサ面を有するとともに、前記半導体基板に対してプローブ光を照射するように構成した光走査型二次元濃度分布測定装置の前記センサ面に接触するように溶液またはガスを設け、この溶液またはガスに接触するように評価対象材料を設けたときに当該溶液またはガス中において引き起こされる微小な物質濃度または物性パラメータの分布の変化を検出するようにしたことを特徴とする材料評価方法。
引用特許：
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