特許
J-GLOBAL ID:200903030361367660
液晶用ガラス基板の洗浄方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
河備 健二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-346864
公開番号(公開出願番号):特開2002-143795
出願日: 2000年11月14日
公開日(公表日): 2002年05月21日
要約:
【要約】【課題】 インライン化が可能で、大面積処理や処理の高速化の出来る液晶用ガラス基板の洗浄方法の提供。【解決手段】 大気圧近傍の圧力下で、酸素を4体積%以上含有する雰囲気中で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間にパルス化された電界を印加することにより発生させた放電プラズマを液晶用ガラス基板に接触させることを特徴とする液晶用ガラス基板の洗浄方法。
請求項(抜粋):
大気圧近傍の圧力下で、酸素を4体積%以上含有する雰囲気中で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間にパルス化された電界を印加することにより発生させた放電プラズマを液晶用ガラス基板に接触させることを特徴とする液晶用ガラス基板の洗浄方法。
IPC (3件):
B08B 7/00
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
FI (3件):
B08B 7/00
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
Fターム (12件):
2H088FA21
, 2H088FA24
, 2H088FA30
, 2H088MA20
, 2H090JC09
, 2H090JC19
, 3B116AA02
, 3B116AB14
, 3B116BB62
, 3B116BB89
, 3B116BC01
, 3B116CC05
引用特許:
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