グロー放電プラズマ処理方法及びその装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-133716
公開番号（公開出願番号）：特開平10-154598
出願日： 1997年05月23日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】処理の際のガス雰囲気を問わず、大気圧近傍の圧力下で均一な放電プラズマを発生させ、安定してグロー放電プラズマ処理を行う方法を提供する。【解決手段】大気圧近傍の圧力下で、対向電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該対向電極間に電界を印加することによりグロー放電プラズマ処理を行う方法であって、印加される電界がパルス化されたものであり、電圧立ち上がり時間が100μs以下、電界強度が1〜100kV/cmとなされていることを特徴とするグロー放電プラズマ処理方法。

請求項（抜粋）：

大気圧近傍の圧力下で、対向電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該対向電極間に電界を印加することによりグロー放電プラズマ処理を行う方法であって、印加される電界がパルス化されたものであり、電圧立ち上がり時間が100μs以下、電界強度が1〜100kV/cmとなされていることを特徴とするグロー放電プラズマ処理方法。

IPC (4件)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , H01L 21/31 , H01L 21/205

FI (4件)：

H05H 1/46 A , C23C 16/50 , H01L 21/31 C , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (7件)

プラズマ表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-220795 出願人：新日本製鐵株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘
大気圧プラズマによる表面処理法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-055701 出願人：イーシー化学株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘
特開平3-236475

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