座標測定装置を目標データに従って制御する方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山川政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-059500
公開番号（公開出願番号）：特開平10-300455
出願日： 1998年03月11日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】任意の輪郭形状を測定できる方法とその方法を実施する座標測定装置を提供する。【解決手段】目標データに従った制御の下で、移動自在に支承された走査器(2,7,40)により測定すべき工作物(15)の表面を走査点で好ましい測定方向((→)M)をもって連続的に走査する座標測定装置を制御する。その際、少なくとも走査器(2,7,40)と工作物15は少なくとも1つの回転軸29,30に対して回転自在に支承されている。本発明は、走査すべき線(34,38)を規定する工作物表面上の点(Pai,Pbi)を含む幾何データを準備し、工作物(15,38)を測定するために、特に工作物及び/又は走査ヘッドが回転軸に対して回転されるように、幾何データから測定プロセスを制御するための制御データ(Lai,Lαi又はLbi,Lβi)を計算することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

移動自在に支承され、測定すべき工作物(15)の表面を、好ましい測定方向((→)M)をもって、走査点で連続的に走査する走査器(2,7,40)を有し、少なくとも走査器又は工作物(15)が付加的に第1のアライメントを伴う少なくとも1つの回転軸(29,30)に関して回転自在に支承されている座標測定装置を目標データに従って制御する方法において、少なくとも、走査すべき線(34,38)を規定する工作物表面上の点(Pai,Pbi)を含む幾何データを準備する過程と、工作物(15,38)を測定するために特に工作物及び/又は走査器が回転軸に対して回転されるように、測定プロセスを制御するための制御データ(Lai,Lαi又はLbi,Lβi)を幾何データから計算する過程とを有する方法。

IPC (3件)：

G01B 21/04 , G01B 21/20 , G05D 3/12

FI (3件)：

G01B 21/04 , G01B 21/20 P , G05D 3/12 K

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭53-104266
形状測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-015581 出願人：株式会社豊田自動織機製作所, 樋口俊郎
特開平1-209311

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