特許

J-GLOBAL ID：200903030456439596

基板処理装置

発明者： 鈴木 聡
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-232434
公開番号（公開出願番号）：特開平11-074247
出願日： 1997年08月28日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：

【要約】【課題】 基板表面全体をより均一に処理する。【解決手段】 搬送機構16の搬送ローラ18により基板Wを水平面に対して傾けた状態で支持し、基板Wの傾斜方向における上位側の端部上方に設けたスリットノズル30により基板表面にエッチング液を供給するとともに、スリットノズル30の下位側に配置されたサージタンク36の多数のシャワーノズル40により基板表面にエッチング液を吹き付けるようにエッチング装置10を構成した。

請求項（抜粋）：

水平面に対して所定の角度をなす傾斜姿勢に保持された基板に対して処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、基板の傾斜方向における上位側の端部に処理液を供給して上記基板表面上で処理液を上記傾斜方向に流下させる第1の処理液供給手段を備えるとともに、この第1の処理液供給手段よりも基板の傾斜方向における下位側に配置されて、基板に処理液を吹き付ける第2の処理液供給手段を備えていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

H01L 21/306 R ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 569 D

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 搬送処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-337509   出願人：東京化工機株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-344610   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (1件)

• 搬送処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-337509   出願人：東京化工機株式会社