特許

J-GLOBAL ID：200903030502247818

プラズマ加工法

発明者： 滝川 浩史 ,  宮野 竜一
出願人/特許権者： 伊藤光学工業株式会社 ,  滝川 浩史
代理人 (1件)： 飯田 昭夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-133720
公開番号（公開出願番号）：特開2001-316801
出願日： 2000年05月02日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：

【要約】【課題】 真空放電によるプラズマの構成成分(組成)をより自由に制御可能なプラズマ加工法を提供すること。【解決手段】 陰極(第一電極)102と陽極(第二電極)107との間の真空放電によりプラズマを発生させて、該プラズマを利用して基板109に対して蒸着等の加工をするプラズマ加工法。プラズマの構成粒子として、第一電極102からの第一蒸発粒子112、及び、導入ガス粒子115に加えて、第二電極207からの第二蒸発粒子113とを含ませるようにした。

請求項（抜粋）：

陰極(第一電極)と陽極(第二電極)との間の真空放電によりプラズマを発生させて、該プラズマを利用して基板を加工する方法であって、前記プラズマの構成粒子として、前記第一電極からの第一蒸発粒子、及び、導入ガスの粒子に加えて、前記第二電極からの第二蒸発粒子とを含ませるようにしたことを特徴とするプラズマ加工法。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/285

FI (3件)：

C23C 14/24 F ,  B01J 19/08 H ,  H01L 21/285 Z

Fターム (22件)：

4G075AA24 ,  4G075BA08 ,  4G075BB02 ,  4G075BC01 ,  4G075BC04 ,  4G075BD14 ,  4G075CA02 ,  4G075CA15 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA03 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4K029BA44 ,  4K029BA45 ,  4K029BA49 ,  4K029CA01 ,  4K029DB17 ,  4M104BB04 ,  4M104DD36

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 真空蒸着方法及び真空蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-182496   出願人：株式会社神戸製鋼所