特許

J-GLOBAL ID：200903030666047054

反応現像画像形成法

発明者： 友井 正男 ,  大山 俊幸
出願人/特許権者： よこはまティーエルオー株式会社
代理人 (2件)： 下田 昭 ,  赤尾 謙一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-375137
公開番号（公開出願番号）：特開2005-140878
出願日： 2003年11月05日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：

【課題】 側鎖にカルボニル基を有するポリマーを用い、これを現像液に可溶にすることによりフォトレジストを形成する新規な「反応現像画像形成法」を提供する。 【解決手段】 本発明は、基板上に側鎖にカルボニル基を有するポリマー及び光酸発生剤から成るフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクする段階、このパターン面に紫外線を照射する段階、該フォトレジスト層を下式 MO-R-X(式中、Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属、Rはアルキレン基、Xは1級アミノ基、2級アミノ基又は3級アミノ基を表す。)で表される金属アルコキシドを含む第1現像液で処理する第1現像段階、及びその後このフォトレジスト層を酸を含む第2現像液で処理する第2現像段階から成る反応現像画像形成法である。 【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基板上に側鎖にカルボニル基を有するポリマー及び光酸発生剤から成るフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクする段階、このパターン面に紫外線を照射する段階、該フォトレジスト層を下式 MO-R-X (式中、Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属、Rはアルキレン基、Xは1級アミノ基、2級アミノ基又は3級アミノ基を表す。)で表される金属アルコキシドを含む第1現像液で処理する第1現像段階、及びその後このフォトレジスト層を酸を含む第2現像液で処理する第2現像段階から成る反応現像画像形成法。

IPC (4件)：

G03F7/32 ,  G03F7/032 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/32 ,  G03F7/032 ,  G03F7/38 511 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB10 ,  2H025CB41 ,  2H025FA16 ,  2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096BA09 ,  2H096GA10 ,  2H096GA15 ,  2H096GA60

引用特許：

出願人引用 (4件)

• アセタール又はその環状誘導体の側鎖を有するポリアミド及びそれから調製された耐熱性ホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-226637   出願人：コリアリサーチインスティチユートオブケミカルテクノロジイ
• ナフトール構造を有するイオン形光酸発生剤及びこれを用いた感光性ポリイミド組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-398334   出願人：三星電子株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-372757   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 反応現像画像形成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-309500   出願人：よこはまティーエルオー株式会社

審査官引用 (3件)

• 感光性組成物及び平版印刷版並びに印刷方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-295956   出願人：三菱製紙株式会社
• 特開昭64-035434
  
• 特開昭63-124047