特許

J-GLOBAL ID：200903085717080719

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 藤森 亨 ,  丹 史郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-372757
公開番号（公開出願番号）：特開2001-249458
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：

【要約】【課題】高感度で高解像力を有し、現像欠陥および表面ザラツキが改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(a)特定構造の酸分解性基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)下記一般式(X)で示される基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(X)中、R1、R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、R3、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐、環状アルキル基を表し、R5は、置換基を有してもよい直鎖、分岐、環状アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基を表す。mは1〜20の整数を表し、nは0〜5の整数を表す。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (17件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB45 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (5件)

• レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-049097   出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• 新規なレジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-353490   出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• 感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-152412   出願人：ジェイエスアール株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-081075   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-246873   出願人：信越化学工業株式会社