特許
J-GLOBAL ID:200903030693891177

金属密着面表面処理方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 大西 孝治 ,  大西 正夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-160075
公開番号(公開出願番号):特開2004-360012
出願日: 2003年06月04日
公開日(公表日): 2004年12月24日
要約:
【課題】金属対象物の密着面の密着性を現状以上に向上させることが可能なようにする。【構成】金属対象物W1(W2)の密着面sf1(sf2)に照射すべきフェムト秒レーザを出力するレーザ光発生部10と、レーザ光発生部10の光軸上に配置されており且つ金属対象物W1(W2)を載置するステージ50等を備え、ステージ50上の金属対象物W1の密着面sf1にフェムト秒レーザを照射して微細周期構造を形成する一方、金属対象物W2の密着面sf2にフェムト秒レーザを照射して微細周期構造を同様にして形成し、これにより金属対象物W1と金属対象物W2との間の密着面sfの密着性を向上させるようにする。微細周期構造を形成するに当たりフェムト秒レーザを所定回数照射する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
第1、第2の金属対象物の間が密着されている場合の密着面の密着性を向上させる方法であって、第1の金属対象物の密着面にフェムト秒レーザを照射して微細周期構造を形成する一方、第2の金属対象物の密着面にフェムト秒レーザを照射して微細周期構造を形成するようにしたことを特徴とする金属密着面表面処理方法。
IPC (2件):
C23C26/00 ,  B23K26/00
FI (2件):
C23C26/00 E ,  B23K26/00 E
Fターム (10件):
4E068AH00 ,  4E068CA01 ,  4E068CA02 ,  4E068CE04 ,  4E068DB01 ,  4K044AA01 ,  4K044BA01 ,  4K044BB01 ,  4K044BC08 ,  4K044CA44
引用特許:
審査官引用 (6件)
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