特許

J-GLOBAL ID：200903030784871330

グラフェントランジスタ及び電子機器

発明者： 原田 直樹
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (4件)： 眞鍋 潔 ,  柏谷 昭司 ,  渡邊 弘一 ,  伊藤 壽郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-020277
公開番号（公開出願番号）：特開2009-182173
出願日： 2008年01月31日
公開日（公表日）： 2009年08月13日
要約：

【課題】グラフェントランジスタ及び電子機器に関し、グラフェン膜を用いたチャネル層の特性を各場所で最適化することにより、グラフェントランジスタの性能を向上する。【解決手段】一層以上のグラフェンからなる炭素膜12をキャリアが走行する能動領域とするとともに、前記能動領域を構成する前記炭素膜のキャリアの走行方向に垂直な方向の幅を場所によって変化させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一層以上のグラフェンからなる炭素膜をキャリアが走行する能動領域とするとともに、前記能動領域を構成する前記炭素膜のキャリアの走行方向に垂直な方向の幅が場所によって変化することを特徴とするグラフェントランジスタ。

IPC (5件)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/331 ,  H01L 29/737 ,  H01L 29/73 ,  H01L 29/786

FI (5件)：

H01L29/06 601N ,  H01L29/72 H ,  H01L29/72 Z ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618C

Fターム (46件)：

5F003AZ03 ,  5F003BB02 ,  5F003BB04 ,  5F003BB08 ,  5F003BB90 ,  5F003BC02 ,  5F003BC04 ,  5F003BC08 ,  5F003BC90 ,  5F003BE02 ,  5F003BE04 ,  5F003BE08 ,  5F003BE90 ,  5F003BF06 ,  5F003BH01 ,  5F003BH08 ,  5F003BH99 ,  5F003BJ15 ,  5F003BM01 ,  5F003BN01 ,  5F110AA01 ,  5F110AA12 ,  5F110BB04 ,  5F110CC01 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110EE02 ,  5F110EE04 ,  5F110EE14 ,  5F110EE43 ,  5F110FF02 ,  5F110FF29 ,  5F110GG01 ,  5F110GG23 ,  5F110GG29 ,  5F110GG32 ,  5F110GG42 ,  5F110GG44 ,  5F110GG52 ,  5F110HK02 ,  5F110HK04 ,  5F110HK21 ,  5F110NN02 ,  5F110NN23 ,  5F110NN35 ,  5F110QQ14

引用特許：

出願人引用 (2件)

• グラファイト薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-064946   出願人：新技術事業団, 菊地理恵, 大木芳正, 松井丈雄
• グラファイト層の形成方法、該方法によって形成されたグラファイト層を有するX線光学素子及びX線光学素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-058732   出願人：新技術事業団, 松井丈雄, 菊地理恵, 大木芳正