特許

J-GLOBAL ID：200903030818390930

平板状物の乾燥方法および乾燥装置

発明者： 宗像 秀樹
出願人/特許権者： 信越半導体株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-223136
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050657
出願日： 1996年08月06日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 従来の平板状物の乾燥方法の問題が起こらない、新しい平板状物の乾燥方法を提供する。【解決手段】 表面全体に水分の付着した平板状物を、1つまたはそれ以上の溝部を有し、該溝部に1つまたはそれ以上の開口部を有する空洞部が形成されている載置台の溝部に略垂直に載置し、該載置台の空洞部を減圧して平板状物の表面全体に付着した水分を開口部から吸引することにより、該平板状物を乾燥させることを特徴とする、平板状物の乾燥方法、および、平板状物を略垂直に載置可能な溝部を1つまたはそれ以上有し、該溝部に1つまたはそれ以上の開口部を有する空洞部が形成されている載置台と、載置台の空洞部を減圧する手段とを設けたことを特徴とする、平板状物の乾燥装置。

請求項（抜粋）：

表面全体に水分の付着した平板状物を、1つまたはそれ以上の溝部を有し、該溝部に1つまたはそれ以上の開口部を有する空洞部が形成されている載置台の溝部に略垂直に載置し、該載置台の空洞部を減圧して平板状物の表面全体に付着した水分を開口部から吸引することにより、該平板状物を乾燥させることを特徴とする、平板状物の乾燥方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 361 ,  F26B 5/12

FI (2件)：

H01L 21/304 361 Z ,  F26B 5/12

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開平3-195021
  
• 基板乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-248808   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-032514   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 半導体ウェーハ粒子除去装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-267738   出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
• 特開平4-061330
  
• 半導体装置の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-142473   出願人：日本電気株式会社