特許
J-GLOBAL ID:200903030823266873
光超音波断層画像測定方法及び装置
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
,
,
代理人 (1件):
清水 守
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-035983
公開番号(公開出願番号):特開2005-224399
出願日: 2004年02月13日
公開日(公表日): 2005年08月25日
要約:
【課題】計測深さを深くするとともに、高解像度を得ることができる光超音波断層画像測定方法及び装置を提供する。【解決手段】レーザ光源1から出射した光は、ビームスプリッタ2を通って参照アームとサンプルアームに別れ、参照アームの光は参照ミラー3で反射してビームスプリッタ2を通り、光検出器7へ向かい参照光となる。一方、サンプルアームの光は対物レンズ4でフォーカスされ、超音波トランスデューサ5を透過して測定試料6に入射する。つまり、試料に超音波を印加する電気走査型超音波エコー装置のプローブに干渉光学系を組み込み、前記干渉光学系と電気走査型超音波エコー装置との同期をとり、試料の計測深さを深くするとともに、高解像度を得る。【選択図】図1
請求項(抜粋):
試料に超音波を印加する超音波エコー装置のプローブ部に照射・集光光学系を組み込み、前記光学系で照射・集光された光波と前記プローブ部での超音波印加との同期を取り、前記光波と前記超音波とを同一行路で重畳し、前記試料において超音波による光波反射位置である計測深さを深くするとともに、より高い解像度を得ることを特徴とする光超音波断層画像測定方法。
IPC (7件):
A61B10/00
, A61B1/00
, A61B8/12
, G01B9/02
, G01B17/00
, G01B21/00
, G01N21/17
FI (8件):
A61B10/00 E
, A61B1/00 300D
, A61B1/00 300F
, A61B8/12
, G01B9/02
, G01B17/00 C
, G01B21/00 A
, G01N21/17 630
Fターム (68件):
2F064AA01
, 2F064EE01
, 2F064FF02
, 2F064GG02
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F068AA39
, 2F068CC07
, 2F068DD04
, 2F068DD05
, 2F068FF03
, 2F068FF12
, 2F068GG07
, 2F068GG09
, 2F068JJ02
, 2F068KK12
, 2F069AA43
, 2F069AA99
, 2F069BB40
, 2F069DD19
, 2F069DD20
, 2F069GG04
, 2F069GG07
, 2F069GG09
, 2F069GG56
, 2F069HH30
, 2F069JJ01
, 2F069KK10
, 2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059EE20
, 2G059FF02
, 2G059FF06
, 2G059GG01
, 2G059HH01
, 2G059HH06
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 4C061AA22
, 4C061CC06
, 4C061DD10
, 4C061FF40
, 4C061FF47
, 4C061HH51
, 4C061WW16
, 4C601BB02
, 4C601BB06
, 4C601BB10
, 4C601BB14
, 4C601BB24
, 4C601DD14
, 4C601DE16
, 4C601EE04
, 4C601EE09
, 4C601FE04
, 4C601GB37
, 4C601HH12
, 4C601KK12
, 4C601KK24
, 4C601LL33
引用特許:
前のページに戻る