特許
J-GLOBAL ID：200903030830419529
荷電粒子ビーム照射システム及び荷電粒子ビーム出射方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-047676
公開番号（公開出願番号）：特開2007-222433
出願日： 2006年02月24日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：
【課題】荷電粒子ビームの進行方向において荷電粒子ビームの誤照射を防止できる荷電粒子ビーム照射システム及び荷電粒子ビーム出射方法を提供することにある。 【解決手段】RMWを回転方向において分割して形成される複数の角度領域のうち目標線量に達した角度領域へのイオンビームの供給を停止しその目標線量に到達していない他の角度領域にイオンビームを供給することにある。このため、患部内のイオンビーム進行方向における各位置に対する照射線量を容易に調節することができ、患部内のイオン進行方向における各位置において照射線量の過不足が生じる誤照射の確率を著しく低減することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを加速して出射する加速装置と、
前記加速装置から出射された前記荷電粒子ビームが透過するエネルギー調整装置を有し、前記エネルギー調整装置を透過した前記荷電粒子ビームを照射対象に照射するビーム照射装置とを備え、
前記エネルギー調整装置は、回転可能で、軸方向の厚みが回転方向において異なり、
前記エネルギー調整装置の回転角度及び前記エネルギー調整装置を透過した前記荷電粒子ビームの線量に基づいて、前記加速装置からの前記荷電粒子ビームの出射開始及び出射停止を制御する制御装置を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム照射システム。
IPC (4件)：
A61N 5/10
, G21K 5/04
, G21K 3/00
, G21K 5/00
A61N5/10 J
, A61N5/10 D
, G21K5/04 A
, G21K3/00 S
, G21K3/00 Y
, G21K5/00 A
4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE03
, 4C082AG02
, 4C082AG05
, 4C082AG09
, 4C082AG42
, 4C082AG52
, 4C082AP02
, 4C082AP03
, 4C082AR07
