特許
J-GLOBAL ID：200903030972898700

ガス供給部材及びプラズマ処理装置

発明者：
守屋 剛

守屋 剛 について

, 
村上 貴宏

村上 貴宏 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (5件)： 別役 重尚 ,  村松 聡 ,  後藤 夏紀 ,  池田 浩 ,  二宮 浩康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-057673
公開番号（公開出願番号）：特開2006-245214
出願日： 2005年03月02日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】 ガスを滞留させることなくチャンバ内に供給することができるガス供給部材及びプラズマ処理装置を提供する。 【解決手段】 ガス供給部材であるガス導入シャワーヘッド32は、ガス穴35のチャンバ対向部側の外縁部に、ガス穴35の中心軸に関してn回回転対称性(nは2以上の自然数)を有する斜面201を有する。斜面201の傾斜角は、電極板空間対向面に対して20°である。また、ガス穴35は、径が2mmであり、夫々の間隔が5mmになるように配設される。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
プラズマ処理装置が備えるチャンバに配置されるガス供給部材であって、前記チャンバの内部空間に対向する平面と、前記平面上に複数穿孔されたガス穴とを備え、前記複数のガス穴から前記内部空間にガスを供給するガス供給部材において、 前記ガス穴の前記平面における外縁部は、前記ガス穴から噴出されたガスの流れに対応する斜面を備え、 前記斜面は、平面及び曲面の少なくともいずれかを含むことを特徴とするガス供給部材。
IPC (1件)：
H01L 21/306
FI (1件)：
H01L21/302 101B
Fターム (6件)：
5F004BA09 ,  5F004BB28 ,  5F004BC03 ,  5F004DA00 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM