特許
J-GLOBAL ID：200903087401524510

プラズマエッチング装置

発明者：
置田 尚吾

置田 尚吾 について

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渡邊 彰三

渡邊 彰三 について

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廣島 満

廣島 満 について

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三宅 清郎

三宅 清郎 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 新居 広守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-014790
公開番号（公開出願番号）：特開2005-209885
出願日： 2004年01月22日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：
【課題】 高いエッチングレートの均一性および面内均一性を有し、かつ、パーティクルの発生を防止するプラズマエッチング装置を提供する。【解決手段】 エッチングチャンバー100と、高周波電源110a、110bと、ガス導入路120と、排気口130と、誘電コイル140と、電極150と、誘電コイル140直下のエッチングチャンバー100内壁に設けられた石英板等の誘電板160aと、ファラデーシールド170b上に配設された誘電板160bと、誘電コイル140と誘電板160aとの間に配設されたファラデーシールド170aと、誘電コイル140直下でないエッチングチャンバー100内壁上に配設されたファラデーシールド170bとを備え、ガス導入路120は誘電板160a内部に配設され、エッチングチャンバー100へのガス吹き出し口において、開口部にテーパ形状を有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理体をプラズマエッチングする処理室と、 前記処理室に電磁波を導入する誘電コイルと、 前記誘電コイル直下の前記処理室内壁に設けられた第1の誘電板と、 前記第1の誘電板と前記誘電コイルとの間に配設された第1のファラデーシールドと、 前記第1のファラデーシールドおよび前記誘電コイルに高周波電圧を印加する高周波電源と、 前記処理室内にエッチングガスを導入するガス導入手段とを備え、 前記ガス導入手段は、前記第1の誘電板内部に配設された導入路と、前記処理室内へのガス吹き出し口とを含み、前記ガス吹き出し口の開口部はテーパ形状を有する ことを特徴とするプラズマエッチング装置。
IPC (2件)：
H01L21/3065 ,  H05H1/46
FI (2件)：
H01L21/302 101C ,  H05H1/46 L
Fターム (5件)：
5F004AA01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BC03
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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