特許
J-GLOBAL ID：200903030973627653
スペーサと突起を同時に作製する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-114057
公開番号（公開出願番号）：特開2003-344860
出願日： 2003年04月18日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：
【要約】【課題】 LCDパネル上に高低が異なるスペーサと突起を同時に作製する方法およびそのためのフォトマスクを提供し、生産効率向上および製造コスト低下を図る。【解決手段】 フォトレジスト層が既に形成された基板に適用されるものである。突起を形成するのに用いられ、複数の遮光ユニットからなる第1形状を有するパターンから構成される第1フォトマスクパターンと、スペーサを形成するのに用いられ、第2形状を有する遮光パターンから構成される第2フォトマスクパターンとを備えてなるフォトマスクを準備するステップを行った後、このフォトマスクを用いてフォトレジスト層に露光現像を施すステップを実行する。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト層が既に形成された基板に適用される、スペーサと突起を同時に作製する方法であって、前記突起を形成するのに用いられ、複数の遮光ユニットからなる第1形状を有するパターンにより構成される第1フォトマスクパターンと、前記スペーサを形成するのに用いられ、第2形状を有する遮光パターンにより構成される第2フォトマスクパターンとを備えてなるフォトマスクを準備するステップと、前記フォトマスクを用いて前記フォトレジスト層に対して露光現像を施すステップとを具備する方法。
Fターム (6件)：
2H089LA09
, 2H089MA03X
, 2H089NA14
, 2H089QA12
, 2H089QA13
, 2H089QA15
