特許
J-GLOBAL ID：200903031007283871
フォトレジスト現像廃液の処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 進二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-263793
公開番号（公開出願番号）：特開平10-085741
出願日： 1996年09月13日
公開日（公表日）： 1998年04月07日
要約：
【要約】【課題】 陰イオン交換体と接触させる工程を導入することにより、フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを含有するフォトレジスト現像廃液の簡単且つ効率的な処理方法を提供する。【解決手段】 フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを含有するフォトレジスト現像廃液、或いは、そのテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含む濃縮液(例えば、電気透析又は電解による濃縮液)又は中和処理液(現像廃液を中和後、不溶化したフォトレジストを濾過等の方法により除去した処理液)を陰イオン交換体と接触させ、フォトレジストを陰イオン交換体に吸着させることにより除去する。この方法は、得られる処理液をフォトレジストの現像液として再利用することも可能とする。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを含有するフォトレジスト現像廃液の処理方法において、前記フォトレジスト現像廃液、或いは、そのテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含む濃縮液又は中和処理液を陰イオン交換体と接触させ、フォトレジストを陰イオン交換体に吸着させることにより除去する工程を含むことを特徴とするフォトレジスト現像廃液の処理方法。
IPC (7件)：
C02F 1/42 ZAB
, B01J 41/04
, C02F 1/46
, C02F 1/469
, G03F 7/26
, G03F 7/32
, H01L 21/027
C02F 1/42 ZAB D
, B01J 41/04 G
, C02F 1/46 Z
, G03F 7/26
, G03F 7/32
, C02F 1/46 103
, H01L 21/30 569 Z
