特許
J-GLOBAL ID:200903031011167770

炭素でド-ピングした接触層を含む光学装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡部 正夫 (外11名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-165298
公開番号(公開出願番号):特開2000-031580
出願日: 1999年06月11日
公開日(公表日): 2000年01月28日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、被覆領域(15)および導波領域(14)内でのZnの問題を緩和する光学装置およびその製造方法である。【解決手段】 接触領域(16)は、二つの成分からなる材料でpタイプのドーピング剤としての働きをする炭素を含む。
請求項(抜粋):
光学装置(10)であって、導波領域、導波領域と低い抵抗で接触するように、十分な電気伝導度を達成するために、炭素からなるpタイプのドーピング剤を含む接触領域上に形成された、InGaAsおよびInGaAsPから選択した半導体接触領域(16)を特徴とする半導体導波領域(14)と、前記導波領域に隣接して形成された、Znからなるドーピング剤を含む被覆領域(15)を備える装置。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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