特許
J-GLOBAL ID：200903031150101636
多孔質体及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-068511
公開番号（公開出願番号）：特開2004-237431
出願日： 2003年03月13日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：
【課題】発光デバイス、光デバイス、マイクロデバイスなどの機能材料として、利用可能な孔を有する多孔質体及びその製造方法を提供する。【解決手段】多孔質体であって、複数の柱状の孔とそれを取り囲む領域を備え、該領域はSi、Geあるいはこれらの組み合わせ材料を含み構成される酸化物非晶質領域である多孔質体。前記孔1が膜面に対して垂直またはほぼ垂直に設けられ、孔の平均孔径が20nm以下で、平均間隔が30nm以下であり、かつ前記孔1が前記酸化物領域2で隔てられている多孔質体。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
多孔質体であって、複数の柱状の孔とそれを取り囲む領域を備え、該領域はSi、Geあるいはこれらの組み合わせ材料を含み構成される酸化物非晶質領域であることを特徴とする多孔質体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
引用文献：
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