特許
J-GLOBAL ID：200903031173674943
マスク欠陥の検出方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-188984
公開番号（公開出願番号）：特開平10-038812
出願日： 1996年07月18日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 マスク欠陥の検出時間を短縮し、このことによりマスクコストの低減を図る。【解決手段】 リソグラフィの露光工程に用いられるマスクの欠陥を検出する方法であって、欠陥の検出が行われる被検出マスクに形成されたパターンを、第1検出領域と第2検出領域とに分割し、分割された領域毎に検出感度を変えて被検出マスクの欠陥の検出を行う。
請求項（抜粋）：
リソグラフィの露光工程に用いられるマスクの欠陥を検出する方法であって、欠陥の検出が行われる被検出マスクに形成されたパターンを、第1検出領域と第2検出領域とに分割する第1工程と、前記分割された領域毎に検出感度を変えて被検出マスクの欠陥の検出を行う第2工程とを有することを特徴とするマスク欠陥の検出方法。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, H01L 21/027
, H01L 21/66
G01N 21/88 E
, H01L 21/66 J
, H01L 21/30 502 V
