洗浄装置及び洗浄装置における搬送装置並びに搬送方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：羽切正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-332595
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148407
出願日： 1995年11月28日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】例えばシリコンウェハーを被洗浄物として扱う場合に、その搬送時に発生するパーティクルによる汚染を防止し、又、搬送経路中で発生したトラブルを迅速に処理し得る洗浄装置、搬送装置及び搬送手段を提供すること。【解決手段】シリコンウェハーSWを収容したカッセットKを下方から支持して搬送することとし、パーティクルがシリコンウェハーに及ばないようにしている。又、O/F揃え等、シリコンウェハーに対して施される各作業位置の側方に搬送経路(本経路)77を設定し、これにより、トラブル発生時には目的のシリコンウェハーを該搬送経路を逆行させ、後続のシリコンウェハーを回避して装置外部に取り出すことができる。

請求項（抜粋）：

被洗浄物を下方から支持して搬送すると共に、搬送経路を作業位置の側方に設定して前記被洗浄物の搬入・搬出を該搬送経路に沿って行うようにしたことを特徴とする搬送装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , B08B 3/04 , H01L 21/304 351

FI (3件)：

H01L 21/68 A , B08B 3/04 Z , H01L 21/304 351 C

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-323847
半導体製造設備
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-021466 出願人：三菱電機株式会社
半導体ウエハ搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-003719 出願人：三菱電機株式会社

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