特許

J-GLOBAL ID：200903031222495200

静電チャックを備える基板ホルダ及びその製造方法

発明者： 安 浩 甲
出願人/特許権者： コミコ株式会社
代理人 (2件)： 小堀 益 ,  堤 隆人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-208834
公開番号（公開出願番号）：特開2007-027494
出願日： 2005年07月19日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：

【課題】静電チャックを備える基板ホルダ及びその製造方法を提供する。【解決手段】縁にエッジ突出部451が形成されているサセプタ450と、エッジ突出部451の内側に位置し、サセプタ450上に位置した静電チャック420とを備える基板ホルダである。該静電チャック420とサセプタ450は、複数のワイヤ495が挿入されているゲル状接着剤シート490により接着され、エッジ突出部451と静電チャック420との間には、シリコンまたは耐蝕性エポキシ系物質が充填される。これにより、静電チャック420とサセプタ450との接合時、平坦度を正確に維持させることができて冷却ガス供給ホールの詰まり現象を防止できる。また、冷却ガスが静電チャック420とサセプタ450との間に漏れ出ることを防止することができる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

縁にエッジ突出部が形成されているサセプタと、 前記エッジ突出部の内側に位置し、前記サセプタ上に位置した静電チャックとを備え、 前記静電チャックと前記サセプタは、複数のワイヤが挿入されたゲル状接着剤シートにより接着され、前記エッジ突出部と前記静電チャックとの間には、シリコンまたは耐蝕性エポキシ系物質が充填されていることを特徴とする基板ホルダ。

IPC (2件)：

H01L 21/683 ,  H02N 13/00

FI (2件)：

H01L21/68 R ,  H02N13/00 D

Fターム (6件)：

5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA16 ,  5F031HA33 ,  5F031HA39 ,  5F031PA30

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 静電吸着装置および処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-251549   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 静電吸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-047546   出願人：富士通株式会社, 株式会社富士通東北エレクトロニクス