微細加工装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-094676
公開番号（公開出願番号）：特開2001-277200
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月09日
要約：

【要約】【課題】 1mm角以上の大面積に加工寸法100nm以下の微細なパターンを低コストで一括加工できる簡便な微細加工装置を提供する。【解決手段】微細パターン(12)が形成された原盤(11)および被加工基板(21)を保持する手段(13,31)と、原盤と基板との間でエネルギー移動または物質移動を誘起させる手段(41)と、原盤と基板との相対位置を制御する手段(32,33,42)とを具備し、原盤から基板へ微細パターンを転写する微細加工装置。

請求項（抜粋）：

微細パターンが形成された原盤および被加工基板を保持する手段と、前記原盤と前記被加工基板との間でエネルギー移動または物質移動を誘起させる手段と、前記原盤と前記被加工基板との相対位置を制御する手段とを具備し、前記原盤から前記被加工基板へ微細パターンを転写することを特徴とする微細加工装置。

IPC (5件)：

B82B 3/00 , G11B 7/24 522 , G11B 7/26 , G11B 9/14 , H01J 37/30

FI (6件)：

B82B 3/00 , G11B 7/24 522 Z , G11B 7/26 , G11B 9/14 G , G11B 9/14 M , H01J 37/30 Z

Fターム (12件)：

5C034AA01 , 5C034AA02 , 5C034AA07 , 5C034AB04 , 5D029JA04 , 5D029JB21 , 5D029JB50 , 5D121AA02 , 5D121DD01 , 5D121DD11 , 5D121GG02 , 5D121GG30

引用特許：

審査官引用 (8件)

情報処理装置及びこれに用いるデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-077418 出願人：キヤノン株式会社
固体電解質スタンプロム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-117385 出願人：横田マーク雪村
マスター情報坦体およびマスター情報信号の磁気記録媒体への記録方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-191889 出願人：松下電器産業株式会社

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