特許
J-GLOBAL ID：200903031419954355

液晶パネル用基板、液晶パネル及びそれを用いた電子機器並びに液晶パネル用基板の製造方法

発明者：
片山 茂憲

片山 茂憲 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-277538
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100187
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】 反射型の液晶パネルにおいて、反射電極に最適な反射特性を与えることにより、視野角が広く且つ明るく高品位の反射型表示を可能にする。【解決手段】 液晶パネル用基板は、基板1上に、トランジスタと、トランジスタに接続された反射電極13とを有する。反射電極13の下方には、層間絶縁膜を介して反射電極13に対応する領域に積層されると共に多数の穴が開孔されることにより凹凸状に形成された第2導電層10aを有する。第2導電層からは、平面的に見て反射電極13の間隙に覆う遮光膜も形成されており、この遮光膜部分には穴は開孔されていない。
請求項（抜粋）：
基板に、トランジスタと、前記トランジスタに接続された反射電極と、前記反射電極の下方に層間絶縁膜とを有し、前記層間絶縁膜は、第1のシリコン酸化膜、第1のシリコン酸化膜の上に、シリコン化合物と過酸化水素との重縮合反応によって形成された第2のシリコン酸化膜、第2のシリコン酸化膜の上に形成された第3のシリコン酸化膜により形成されることを特徴とする液晶パネル用基板。
IPC (4件)：
G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1365 ,  H01L 21/316 ,  H01L 29/786
FI (4件)：
G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/316 M ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 619 A
Fターム (64件)：
2H090HA04 ,  2H090HA06 ,  2H090HA08 ,  2H090HB03X ,  2H090HB04X ,  2H090HC03 ,  2H090HD03 ,  2H090HD06 ,  2H090JB04 ,  2H090LA01 ,  2H090LA04 ,  2H090LA05 ,  2H090LA20 ,  2H092JA25 ,  2H092JA46 ,  2H092JB08 ,  2H092JB56 ,  2H092JB58 ,  2H092KA03 ,  2H092KA04 ,  2H092KA07 ,  2H092KB13 ,  2H092KB22 ,  2H092KB25 ,  2H092MA05 ,  2H092MA08 ,  2H092NA01 ,  2H092NA19 ,  2H092PA09 ,  2H092PA12 ,  5F058BC02 ,  5F058BD02 ,  5F058BF02 ,  5F058BF23 ,  5F058BF25 ,  5F058BF29 ,  5F058BH01 ,  5F110BB01 ,  5F110BB04 ,  5F110CC02 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD05 ,  5F110EE05 ,  5F110EE09 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF09 ,  5F110FF23 ,  5F110FF29 ,  5F110GG12 ,  5F110GG13 ,  5F110GG15 ,  5F110HL03 ,  5F110HL04 ,  5F110HL23 ,  5F110NN02 ,  5F110NN03 ,  5F110NN04 ,  5F110NN22 ,  5F110NN24 ,  5F110NN55 ,  5F110NN66
引用特許：
審査官引用 (7件)
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