特許

J-GLOBAL ID：200903031472614450

被処理物の表面処理方法およびその処理装置

発明者： 吉田 英夫 ,  宮田 清蔵 ,  曽根 正人 ,  佐藤 信義
出願人/特許権者： 吉田 英夫 ,  旭エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 千明 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-348787
公開番号（公開出願番号）：特開2003-147591
出願日： 2001年11月14日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】【課題】 例えば被処理物の電気化学的処理に好適で、被処理物と大気との接触を回避し、被処理物表面を高精度かつ均質に活性化し、金属イオンの良好な析出を得られるとともに、表面処理流体と処理液の給排を合理的に行ない、それらの有効利用と系外への排出を阻止し、合理的なシステムの実現と生産性の向上、並びに量産化を図れるとともに、電気化学的処理作業を合理的かつ安全に行なえ、しかも設備の小形化と低廉化を図れ、メンテナンスに至便な被処理物の表面処理方法およびその処理装置を提供すること。【解決手段】 被処理物を収容可能な反応槽4に表面処理流体を導入する。前記被処理物の表面処理後、前記表面処理流体を分離槽14へ導入する。汚染物を分離した表面処理流体を前記反応槽4へ循環する。前記被処理物の表面処理時、前記反応槽4を含む表面処理流体の循環経路を連通する。前記循環経路に前記表面処理流体を終始循環させる。

請求項（抜粋）：

被処理物を収容可能な反応槽に表面処理流体を導入し、前記被処理物の表面処理後、前記表面処理流体を分離槽へ導入し、汚染物を分離した表面処理流体を前記反応槽へ循環する被処理物の表面処理方法において、前記被処理物の表面処理時、前記反応槽を含む表面処理流体の循環経路を連通し、該循環経路に前記表面処理流体を終始循環させることを特徴とする被処理物の表面処理方法。

FI (3件)：

C25D 17/00 C ,  C25D 17/00 B ,  C25D 17/00 F

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 水置換乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-070385   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 洗浄方法および洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-084158   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• メッキ液中の不純物除去方法と装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-211866   出願人：ソニー株式会社
• 特開平2-043399