特許

J-GLOBAL ID：200903031586997449

真空吸着テーブル

発明者： 芦田 隆博 ,  谷端 陽一
出願人/特許権者： 株式会社タカトリ
代理人 (1件)： 和田 昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-128951
公開番号（公開出願番号）：特開2002-324831
出願日： 2001年04月26日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：

【要約】【課題】 サイズの異なる半導体ウェーハであってもその全面を均一に吸着保持することができ、表面保護テープの剥がし工程時や吸着テーブル面からの離脱時にウェーハにストレスをかけたり割れを生じさせることがなく、塵埃の付着による悪影響の発生もない、極薄ウェーハの吸着保持に適した真空吸着テーブルを提供する。【解決手段】 ベース21の上面に設けた円形凹部22内を同心円状の薄い環状壁23、24で区画し、少なくともこの環状壁23、24の内側でオリフラ部25〜28の位置を薄い仕切り壁29〜32で区画し、上記円形凹部22内の環状壁23、24及び仕切り壁29、32で区画されたそれぞれの部屋33〜39に通気性部材40〜46をベース21の上面と同一平面になるよう組み込み、前記ベース21の下部で各区画された部屋33〜39ごとに独立して連通するエア給排口48〜54を設け、この各給排口48〜54をエア吸引源55とエア供給源56にバルブを介して個々に独立して接続している。

請求項（抜粋）：

ベースの上面に設けた円形凹部内を同心円状の薄い環状壁で区画し、少なくともこの環状壁の内側でオリフラ部の位置を薄い仕切り壁で区画し、上記円形凹部内の環状壁及び仕切り壁で区画されたそれぞれの部屋に、区画された部屋の形状に適合する通気性部材を、それぞれの上面が同一平面になるよう組み込み、前記ベースの下部で各区画された部屋ごとに独立して連通するエア給排口を設け、この各給排口をエア吸引源とエア供給源の何れかとバルブを介して個々に独立して接続するようにした真空吸着テーブル。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  B65H 9/00 ,  H01L 21/301 ,  H01L 21/304 622

FI (4件)：

H01L 21/68 P ,  B65H 9/00 L ,  H01L 21/304 622 H ,  H01L 21/78 N

Fターム (14件)：

3F102AA20 ,  3F102AB09 ,  3F102BA08 ,  3F102BB01 ,  3F102DA11 ,  3F102FA01 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA14 ,  5F031HA33 ,  5F031HA34 ,  5F031PA16 ,  5F031PA20 ,  5F031PA23

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 半導体ウエハのユニバーサルチャック機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-070657   出願人：株式会社岡本工作機械製作所
• ウェハ真空吸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-110211   出願人：株式会社日立製作所