特許
J-GLOBAL ID：200903031636338301

欠陥検査装置

発明者：
山下 恭司

山下 恭司 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-089957
公開番号（公開出願番号）：特開2003-287505
出願日： 2002年03月27日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：
【要約】【課題】 センサデータの特性を精密にモデル化して参照データを発生することにより、センサデータと参照データの一致度を高めることができ、擬似欠陥を防止して高感度で高精度の欠陥検査を行う。【解決手段】 フォトマスクのパターン欠陥を検査するための欠陥検査装置において、回路パターンが形成された試料11を移動しながら、該試料上の回路パターンを検出するCCDセンサ14と、回路パターンに相当する設計データを展開して展開データを得るデータ展開部22と、データ展開部22で得られた展開データに対し、非対称な係数を有する有限応答フィルターによりフィルター演算し、且つ試料11の移動方向に応じてフィルター係数を切り替えることにより、センサデータとの一致度がより高い参照データを発生する参照部24と、参照データとセンサデータとを比較する比較部とを備えた。
請求項（抜粋）：
回路パターンが形成された試料と検出器を相対的に移動しながら、試料上の回路パターンを光学的に検出して検出データを得る検出手段と、前記回路パターンに相当する設計データを展開して展開データを得るデータ展開手段と、前記データ展開手段で得られた展開データに対し、非対称な係数を有する有限応答フィルターによりフィルター演算し、且つ前記試料の移動方向に応じてフィルター係数を切り替えることにより、前記センサデータとの一致度がより高い参照データを発生する参照データ発生手段と、前記参照データ発生手段により得られた参照データと前記検出手段により得られたセンサデータとを比較する比較手段と、を具備してなることをことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (5件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  G03F 1/08 ,  G06T 1/00 305 ,  G06T 7/00 300
FI (5件)：
G01N 21/956 A ,  G01B 11/30 A ,  G03F 1/08 S ,  G06T 1/00 305 A ,  G06T 7/00 300 E
Fターム (47件)：
2F065AA49 ,  2F065AA61 ,  2F065BB02 ,  2F065CC01 ,  2F065CC18 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ31 ,  2F065RR06 ,  2F065UU05 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051DA07 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA16 ,  2G051ED08 ,  2G051ED11 ,  2H095BD28 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA19 ,  5B057CE06 ,  5B057CH09 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC33 ,  5B057DC39 ,  5L096BA03 ,  5L096CA14 ,  5L096EA14 ,  5L096EA27 ,  5L096FA67 ,  5L096GA55 ,  5L096HA07 ,  5L096JA09 ,  5L096KA13 ,  5L096LA06 ,  5L096MA05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM