特許

J-GLOBAL ID：200903031700355371

基板処理装置

発明者： 北澤 裕之
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-330087
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133278
出願日： 2001年10月29日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：

【要約】【課題】基板の処理室内の回転処理部の上方空間を遮蔽することでミストによる影響を防止した処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置2は、基板Wを回転支持板21上に保持し、上部回転板41との間に基板Wを挟んで形成された処理空間Sで回転処理する。上部回転板41の上面には近接して仕切手段300の円筒体301が配置される。この円筒体301により処理室12は上部回転板41の上方の第一空間A2が残りの第二空間A3から遮蔽される。円筒体301は上端が上部回転板41の昇降機構80に連設され、上部回転板41との位置関係が常に維持される。

請求項（抜粋）：

表面に処理液が供給された基板を回転させて、その当該基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、基板を略水平に保持した状態で基板を回転させる回転処理部と、前記回転処理部に基板を介して対向配置され、基板上面の少なくとも周縁領域をリング状に覆う上部遮蔽部と、前記回転処理部の周囲を覆うように配置され、上部の中央付近に開口を有するとともに、基板の回転に伴って基板表面から振り切られる処理液を受ける処理室と、前記処理室内の空間を前記回転処理部の上方の第一空間と、残りの第二空間とに遮蔽する前記上部遮蔽部の上方に配置された仕切手段と、を具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 651 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

FI (4件)：

H01L 21/304 651 B ,  B08B 3/02 B ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

Fターム (16件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201BB24 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD11

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理方法および基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-338589   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-026213   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 回転式基板塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-203935   出願人：大日本スクリーン製造株式会社