特許
J-GLOBAL ID:200903031731541505
流体加熱装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
木村 高久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-324112
公開番号(公開出願番号):特開2001-141300
出願日: 1999年11月15日
公開日(公表日): 2001年05月25日
要約:
【要約】【課題】 外管の外部に断熱材を配する必要性を無くし、断熱材の加工に起因する装置のコストアップを防止でき、装置形状を小型化できるようにする。【解決手段】 流体加熱装置100は、透明ガラスを用いて内管20と外管30とを一体成型して構成される。内管20と外管30間には流体の流路として機能する空間SP1が形成される。内管20内部には、ランプヒータ201が嵌入されている。外管30は外壁301と内壁302とに二重化された構造となっている。この二重構造によって、外壁301と内壁302間には空間SP2が形成される。空間SP2内の内壁302の上面には光反射膜303が形成される。
請求項(抜粋):
ランプヒータが嵌入された内管を外管内に配設し、前記外管と前記内管の間の空間を通って流れる流体を前記ランプヒータからの光照射により加熱する流体加熱装置において、前記外管を二重構造としたことを特徴とする流体加熱装置。
Fターム (4件):
3L034BA14
, 3L034BA16
, 3L034BA17
, 3L034BB02
引用特許:
審査官引用 (3件)
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流体加熱冷却装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-082832
出願人:小松エレクトロニクス株式会社
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インラインヒータ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-165103
出願人:株式会社大興製作所
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半導体製造における洗浄液加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-114061
出願人:三菱商事株式会社, 株式会社サンテクノ
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