ビスフェノール類の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：重野剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-299165
公開番号（公開出願番号）：特開2008-031139
出願日： 2006年11月02日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：

【課題】アセトン等のカルボニル化合物とフェノール等のフェノール類との反応で、ビスフェノールA等のビスフェノール類を高選択率かつ高収率で製造する。【解決手段】ヘテロポリ酸の後周期遷移金属塩及び/又はヘテロポリ酸のバリウム塩の存在下にカルボニル化合物とフェノール類とを反応させてビスフェノール類を製造する。後周期遷移金属としてはパラジウムが好ましく、ヘテロポリ酸としてはケイタングステン酸が好ましい。アセトンとフェノールとの反応で、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンを高選択率かつ高収率で製造することができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

カルボニル化合物とフェノール類とを反応させてビスフェノール類を製造する方法において、ヘテロポリ酸の後周期遷移金属塩の存在下に反応を行うことを特徴とするビスフェノール類の製造方法。

IPC (5件)：

C07C 37/20 , C07C 39/16 , B01J 23/652 , B01J 23/30 , B01J 27/199

FI (5件)：

C07C37/20 , C07C39/16 , B01J23/64 103Z , B01J23/30 Z , B01J27/199 Z

Fターム (34件)：

4G169AA02 , 4G169BB07A , 4G169BB07B , 4G169BC13A , 4G169BC13B , 4G169BC29A , 4G169BC60A , 4G169BC60B , 4G169BC72A , 4G169BC72B , 4G169BD05A , 4G169BD05B , 4G169BD07A , 4G169BD07B , 4G169CB25 , 4G169CB66 , 4G169CB70 , 4G169DA05 , 4H006AA02 , 4H006AC25 , 4H006BA06 , 4H006BA14 , 4H006BA25 , 4H006BA30 , 4H006BA33 , 4H006BA35 , 4H006BA75 , 4H006FC52 , 4H006FE13 , 4H039CA10 , 4H039CA19 , 4H039CA41 , 4H039CD10 , 4H039CD40

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭36-23334号公報
特開昭61-78741号公報
特許第3003294号公報

全件表示

前のページに戻る