特許
J-GLOBAL ID:200903031774903699

表面疵検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大中 実
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-108660
公開番号(公開出願番号):特開2009-008659
出願日: 2008年04月18日
公開日(公表日): 2009年01月15日
要約:
【課題】表面疵の過検出を抑制して表面疵を精度良く検出することが可能な表面疵検査方法及び装置を提供する。【解決手段】本発明に係る表面疵検査装置100は、渦流探傷又は漏洩磁束探傷を行うことによって被検査材Bに存在する表面疵候補を検出する探傷装置1と、探傷装置によって表面疵候補が検出された場合に、当該表面疵候補を含む被検査材表面の所定領域を撮像する撮像手段2と、撮像手段で撮像した前記所定領域の撮像画像に対して、表面疵に対応する画素領域を抽出するための所定の画像処理を施す画像処理手段3とを備える。画像処理手段は、前記画像処理によって表面疵に対応する画素領域が抽出された場合に、前記所定領域に表面疵が存在すると判定する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
渦流探傷又は漏洩磁束探傷を行うことによって被検査材に存在する表面疵候補を検出するステップと、 表面疵候補が検出された場合に、当該表面疵候補を含む被検査材表面の所定領域を撮像するステップと、 前記所定領域の撮像画像に対して、表面疵に対応する画素領域を抽出するための所定の画像処理を施すステップと、 前記画像処理によって表面疵に対応する画素領域が抽出された場合に、前記所定領域に表面疵が存在すると判定するステップとを含むことを特徴とする表面疵検査方法。
IPC (3件):
G01N 21/892 ,  G01N 27/90 ,  G01N 27/83
FI (3件):
G01N21/892 C ,  G01N27/90 ,  G01N27/83
Fターム (26件):
2G051AA44 ,  2G051AB01 ,  2G051AB03 ,  2G051AB07 ,  2G051BB02 ,  2G051BC02 ,  2G051CA04 ,  2G051CA08 ,  2G051CB01 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051ED30 ,  2G053AA11 ,  2G053AB21 ,  2G053AB22 ,  2G053BA12 ,  2G053BA13 ,  2G053BC02 ,  2G053BC14 ,  2G053CA03 ,  2G053CB16 ,  2G053DA03 ,  2G053DA07 ,  2G053DA09 ,  2G053DB07
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
  • 特開平3-041349
  • 長尺材の外観欠陥検出装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-115636   出願人:日立金属株式会社
  • 特開平2-038955
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