特許
J-GLOBAL ID：200903031776794978
スパッタ処理システムにおけるプラズマ遷移の制御
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (9件)：
社本 一夫
, 小野 新次郎
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 佐久間 滋
, 山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-523982
公開番号（公開出願番号）：特表2007-503096
出願日： 2004年08月18日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：
物質処理に使用されるプラズマを制御するための方法および装置は、プラズマ容器および電源に連結された、共振回路およびスイッチ部の共同作用を特徴とする。プラズマ容器にあるプラズマの状態に関連する信号を取得するためのセンサーは、前記スイッチ部のクローズドループ制御に対応している。共振回路を短絡するためにスイッチ部を閉じることにより、前記センサーによって検出されたプラズマの好ましくない状態を取り除くことができる。
請求項（抜粋）：
物質処理に使用されるプラズマを制御する装置であって、
インダクタを備える共振回路であって、該共振回路は、電源の出力とプラズマ容器の入力と電気的通信状態にあり、エネルギーを蓄積および解放するためのものである、共振回路と、
該プラズマ容器のプラズマ状態に関連する信号を取得するセンサーであって、該インダクタによって引き起こされる流動を検出するように構成される、センサーと、
該信号に応答し、第一状態と第二状態とを切り替わることができるスイッチ部であって、該スイッチ部の該第二状態は、プラズマ状態の変化を引き起こす該共振回路の共振を可能とするように該共振回路を短絡するためのものである、スイッチ部と
を備える、装置。
IPC (7件)：
H05H 1/00
, H01J 37/32
, H05H 1/46
, H05H 1/24
, H05H 1/48
, C23C 14/54
, H01L 21/285
H05H1/00 A
, H01J37/32
, H05H1/46 R
, H05H1/24
, H05H1/48
, C23C14/54 B
, H01L21/285 S
4K029CA05
, 4K029EA06
, 4M104DD39
, 4M104HH20
