特許

J-GLOBAL ID：200903031955919040

マスク及び有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法

発明者： 宮澤 秀明
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-025988
公開番号（公開出願番号）：特開2006-216289
出願日： 2005年02月02日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：

【課題】 被蒸着基板に精度良く所望の形状を蒸着可能なマスク及び有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。【解決手段】 被処理基板上に蒸着成膜するパターンに対応して、蒸着材料を通過させるための開口部を設けた薄板状のマスク10であって、一定の方向に沿って開口された複数の開口部12aと、被処理基板と対向する一方の面の反対側となる他方の面に一定の方向に沿って設けられた桟部15とを有することを特徴とする。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

被処理基板上に蒸着成膜するパターンに対応して、蒸着材料を通過させるための開口部を設けた薄板状のマスクであって、 一定の方向に沿って開口された複数の開口部と、 前記被処理基板と対向する一方の面の反対側となる他方の面に前記一定の方向に沿って設けられた桟部とを有することを特徴とするマスク。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  C23C 14/24 ,  H01L 51/50

FI (4件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  C23C14/24 G ,  H05B33/14 A

Fターム (13件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 蒸着処理用のマスキング部材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-070893   出願人：大日本印刷株式会社
• 蒸着用マスクの製造方法および蒸着用マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-011786   出願人：大日本スクリーン製造株式会社