特許
J-GLOBAL ID：200903031981714251
基板ホルダ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森岡 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-047103
公開番号（公開出願番号）：特開平10-229116
出願日： 1997年02月14日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】【課題】本発明は、液晶表示装置などを製造する際のフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置に搭載された、ガラス基板などを真空吸着する基板ホルダに関し、ガラス基板の浮き上がり量を低減させてガラス基板を吸着することができる基板ホルダを提供することを目的とする。【解決手段】基板ホルダ1は、ガラス基板2を載置する基板載置面上の複数の吸着溝3において、隣り合う吸着溝3のうち配置間隔の相対的に長い一方の吸着溝側の壁面の高さが、配置間隔の相対的に短い他方の吸着溝側の壁面の高さより低く形成された吸着溝を有している。基板ホルダ1の基板載置面上に形成された、位置合わせ用の基準板4が基板載置面に対して上下動するための開口部5に隣接する吸着溝3の開口部5側の壁面の高さが、その吸着溝3の開口部5と反対側の壁面の高さより低く形成されている。
請求項（抜粋）：
基板を載置する基板載置面を有し、前記基板を真空吸着するための複数の吸着溝が前記基板載置面に形成された基板ホルダであって、前記複数の吸着溝の配置関係に基づいて、所定の吸着溝のエッジの少なくとも一部を前記載置面よりも低く形成したことを特徴とする基板ホルダ。
IPC (2件)：
H01L 21/68
, G02F 1/13 101
H01L 21/68 P
, G02F 1/13 101
