プラズマ生成用の螺旋共振装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-221598
公開番号（公開出願番号）：特開2003-037101
出願日： 2001年07月23日
公開日（公表日）： 2003年02月07日
要約：

【要約】【課題】半導体基板などにエッチング、アッシング、CVD等の処理を施すプラズマ処理装置に適用されるプラズマ生成用の螺旋共振装置であって、処理条件の変更に対応して簡単に共振特性を適合させ得る様に改良されたプラズマ生成用の螺旋共振装置を提供する。【解決手段】プラズマ生成用の螺旋共振装置は、減圧可能に構成され且つプラズマ用ガスが供給される容器(11)と、共振コイル(12)と、電気的に接地された外側シールド(13)とから成る共振器(1)、ならびに、共振コイル(12)に高周波電力を供給する高周波電源(2)を備えている。共振コイル(12)は、共振器(1)の負荷インピーダンスが高周波電源(2)側のインピーダンスに整合する様に、処理条件に応じて接地位置を選択可能に構成される。

請求項（抜粋）：

減圧可能に構成され且つプラズマ用ガスが供給される容器と、当該容器の外周に巻回された共振コイルと、当該共振コイルの外周に配置され且つ電気的に接地された外側シールドとから成る共振器、ならびに、前記共振コイルに所定周波数の高周波電力を供給する高周波電源を備え、かつ、前記共振コイルの電気的長さが前記所定周波数における1波長の整数倍または半波長もしくは1/4波長に相当する長さに設定されたプラズマ生成用の螺旋共振装置において、前記共振コイルは、前記共振器の負荷インピーダンスが前記高周波電源側のインピーダンスに整合する様に、処理条件に応じて接地位置を選択可能に構成されていることを特徴とするプラズマ生成用の螺旋共振装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/507 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (4件)：

C23C 16/507 , H01L 21/205 , H05H 1/46 L , H01L 21/302 B

Fターム (14件)：

4K030FA04 , 4K030KA15 , 4K030KA30 , 5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004CA03 , 5F045AA08 , 5F045BB02 , 5F045BB16 , 5F045EH11 , 5F045EH19

引用特許：

審査官引用 (2件)

プラズマ生成用の螺旋共振装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-343850 出願人：エム・シー・エレクトロニクス株式会社
周波数整合器
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-216768 出願人：ケーイーエム株式会社

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