特許
J-GLOBAL ID：200903032073570047

パターンの重ね合わせ誤差測定装置および方法

発明者：
田部井 孝和

田部井 孝和 について


出願人/特許権者：
日立電子エンジニアリング株式会社

日立電子エンジニアリング株式会社 について


代理人 (1件)： 飯塚 義仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-199445
公開番号（公開出願番号）：特開2002-025882
出願日： 2000年06月30日
公開日（公表日）： 2002年01月25日
要約：
【要約】【課題】 回路パターンの重ね合わせ誤差測定を行うにあたって第1基準マークまたは第2基準マークの寸法を求める。【解決手段】 半導体基板上1に回路パターンなどを重ね合わせて形成する際に所定の位置関係をもって形成される所定の対称形状の第1基準マーク11および第2基準マーク12の位置検出データと、該第1基準マーク11または該第2基準マーク12の寸法検出データとを検出手段36x,36yによって検出する。判定部44aは、両基準マーク11,12の各々の位置検出データに基づき各基準マーク11,12の対称中心を求め、該各基準マーク11,12の対称中心のずれに基づいて前記回路パターンなどの重ね合わせ誤差を判定する。評価手段44bでは、寸法検出データに基づき該寸法検出データに対応する基準マークの寸法を求め、該寸法に基づいて前記回路パターンなどの重ね合わせ誤差の信頼性を評価する。
請求項（抜粋）：
半導体基板上に回路パターンなどを重ね合わせて形成する際に所定の位置関係をもって設けられる所定の対称形状の第1基準マークおよび第2基準マークを光学的に検出し、該第1および第2基準マークの各々の位置検出データと、該第1または第2基準マークの寸法検出データとを出力する検出手段と、前記第1基準マークの位置検出データに基づき該第1基準マークの対称中心を求め、前記第2基準マークの位置検出データに基づき該第2基準マークの対称中心を求め、該第1基準マークおよび該第2基準マークのそれぞれの対称中心のずれに基づいて前記回路パターンなどの重ね合わせ誤差を判定する判定手段と、前記寸法検出データに基づき該寸法検出データに対応する前記第1または第2基準マークの寸法を求め、該寸法に基づいて前記回路パターンの重ね合わせ誤差の信頼性を評価する評価手段とを具えるパターンの重ね合わせ誤差測定装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 9/00
FI (4件)：
G01B 11/00 C ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 Z ,  H01L 21/30 502 V
Fターム (25件)：
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065BB02 ,  2F065BB03 ,  2F065BB27 ,  2F065CC20 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065PP04 ,  2F065PP12 ,  2F065PP22 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ38 ,  2F065TT07 ,  2F065UU01 ,  2F065UU02 ,  2F065UU05 ,  5F046AA28 ,  5F046EA04 ,  5F046EB01 ,  5F046EC05 ,  5F046FA10 ,  5F046FA17 ,  5F046FC04
引用特許：
審査官引用 (4件)
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