特許

J-GLOBAL ID：200903032081086146

シリカエアロゲル膜の製造方法

発明者： 山田 眞希 ,  藤井 秀雄 ,  山田 和広 ,  中山 寛之
出願人/特許権者： ペンタックス株式会社
代理人 (1件)： 高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-315049
公開番号（公開出願番号）：特開2006-151800
出願日： 2005年10月28日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：

【課題】 平滑な表面を有し、疎水性のシリカエアロゲル膜を簡易に形成する方法を提供する。【解決手段】 有機修飾シリカを溶媒に分散させる工程と、前記有機修飾シリカを含む分散液によって膜を形成する工程とを含むシリカエアロゲル膜の製造方法において、前記分散工程においてケトン系溶媒に前記有機修飾シリカを分散させる方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

有機修飾シリカを溶媒に分散させる工程と、前記有機修飾シリカを含む分散液によって膜を形成する工程とを含むシリカエアロゲル膜の製造方法において、前記分散の工程においてケトン系溶媒に前記有機修飾シリカを分散させることを特徴とする方法。

IPC (3件)：

C01B 33/12 ,  C01B 33/158 ,  G02B 1/11

FI (3件)：

C01B33/12 C ,  C01B33/158 ,  G02B1/10 A

Fターム (18件)：

2K009AA02 ,  2K009CC09 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072DD05 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072DD08 ,  4G072DD09 ,  4G072EE07 ,  4G072GG03 ,  4G072HH28 ,  4G072LL15 ,  4G072NN21 ,  4G072TT01 ,  4G072TT02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許5948482号公報
  

審査官引用 (5件)

• キセロゲル、及びそれらの調製方法と利用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-165959   出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
• 多孔質シリカ系被膜形成用塗布液、被膜付基材および短繊維状シリカ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-225659   出願人：触媒化成工業株式会社
• 特開平1-103904
  
• 光学機能性膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-167371   出願人：大日本印刷株式会社
• エアロゲル薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-126605   出願人：松下電工株式会社