特許
J-GLOBAL ID：200903032229303842
基板洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-229752
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086222
出願日： 1993年09月16日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】 基板の洗浄を短時間で効果的に行う。【構成】 モータ20の軸に固着したプーリ21と中空軸19の上端に固着したプーリ22との間にベルト23を張設して中空軸19を回転せしめるようにし、この中空軸19の下端にディスクブラシ24を取り付け、また中空軸19内にディスクブラシ24内に洗浄液を供給するパイプ25が臨み、このパイプ25にはチューブ26から洗浄液が供給される。更に、ディスクブラシ24からは側方にブラケット27,27が伸び、これらブラケット27,27に超音波ノズル28,28を取り付け、これら超音波ノズル28,28にはチューブ29,29を介して洗浄液を供給するようにしている。
請求項（抜粋）：
基板表面に存在するゴミを排除する洗浄装置において、この洗浄装置は基板を回転せしめるテーブルと、このテーブルに対し相対的な水平位置が可変とされたディスクブラシと、このディスクブラシと一体的に移動するとともにディスクブラシと基板表面との間に洗浄水を噴出する超音波ノズルとを備えていることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B05C 9/10
, B08B 3/12
, C23G 5/00
