特許
J-GLOBAL ID:200903032430591481
ウエハのマクロ検査方法および自動ウエハマクロ検査装置
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
大垣 孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-022991
公開番号(公開出願番号):特開2005-214980
出願日: 2005年01月31日
公開日(公表日): 2005年08月11日
要約:
【課題】ウエハに形成されたパタンの外観検査を、自動的に行う。【解決手段】ウエハの表面に形成されるパタンの外観検査に用いる自動ウエハマクロ検査装置であって、被検査ウエハの表面像と基準ウエハの表面像とをそれぞれ被検査画像および基準画像として検出する画像検出部16と、検出された基準画像および被検査画像の比較を行い、比較の結果に応じて被検査ウエハの良否の判定を行う画像処理部18とを具える自動ウエハマクロ検査装置において、画像検出部16は、パタンのコート不良および現像不良の検査を行うコート・現像不良検査部12を具えることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
照明部がウエハに向けて検査光を照射し、検出部が該検査光の照明下で該ウエハの表面像を検出し、画像処理部が前記検出した表面像を解析して、前記ウエハの表面に形成されるパタンの外観検査を行うに当り、
前記パタンのコート不良および現像不良の検査を行うとき、前記表面像の解析は、
前記検出部により基準ウエハの表面像を基準画像として検出して、該基準画像を画像メモリ部に格納するステップと、
前記検出部により被検査ウエハの表面像を被検査画像として検出するステップと、
前記画像メモリ部から前記基準画像を読み出して、該基準画像と前記被検査画像とを比較するステップと、
該比較の結果に応じて前記被検査ウエハの良否の判定を行うステップと
を含むことを特徴とするウエハのマクロ検査方法。
IPC (5件):
G01N21/956
, G01B11/24
, G01B11/30
, G06T1/00
, H01L21/027
FI (6件):
G01N21/956 A
, G01B11/30 A
, G06T1/00 305A
, G01B11/24 F
, G01B11/24 K
, H01L21/30 502V
Fターム (50件):
2F065AA49
, 2F065AA51
, 2F065BB02
, 2F065BB03
, 2F065CC19
, 2F065DD06
, 2F065FF04
, 2F065FF41
, 2F065GG02
, 2F065GG13
, 2F065HH02
, 2F065HH04
, 2F065HH12
, 2F065HH13
, 2F065HH14
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ09
, 2F065LL00
, 2F065LL49
, 2F065PP13
, 2F065QQ39
, 2F065RR02
, 2F065SS02
, 2F065SS13
, 2G051AA51
, 2G051AB07
, 2G051AC21
, 2G051BA01
, 2G051BB01
, 2G051BC01
, 2G051CA04
, 2G051CA06
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051DA05
, 2G051EA16
, 2G051EC02
, 2G051ED01
, 2G051ED09
, 2G051ED14
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CE03
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB06
, 5B057DB09
, 5B057DC25
, 5B057DC33
引用特許:
審査官引用 (7件)
-
パターン検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-222567
出願人:ソニー株式会社
-
半導体チップ外観検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-247439
出願人:シャープ株式会社
-
外観検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-078099
出願人:日本電気株式会社
-
特開昭64-057643
-
特開昭62-065432
-
特開昭61-128221
-
半導体チップの外観検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-174117
出願人:松下電工株式会社
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